【所属领域】

智能制造

【痛点问题】

跨尺度微纳表面结构是半导体集成电路、新型显示、军事隐身、安全防伪等先进制造领域的重要制造质量特征。跨尺度微纳表面结构高精度测量，是相关产品制造质量保证的基础。然而，跨尺度微纳表面结构精度高、尺度小、尺度跨度大，结构复杂，如何实现其高效高精度测量，是相关制造领域面临的重要瓶颈和挑战。

【成果介绍】

本成果创新性发明了白光干涉原子力探针扫描跨尺度微纳表面结构高精度测量技术及系统。

本项目依托华中科技大学仪器学科在表面形貌与结构精密测量领域的传统特色优势和长期积累的科研基础，在国家重大科学仪器设备开发专项、国家自然科学基金仪器研制专项、国家863重点项目课题、国家自然科学基金面上项目等支持下，针对相关制造领域微米尺度、纳米尺度、跨尺度微纳表面结构精密测量问题开展了系列研究。本成果技术主要包括以下方面：

1）提出了白光干涉原子力探针扫描跨尺度微纳表面结构测量原理和方法，共光路融合白光显微干涉与原子力探针传感，突破跨尺度微纳传感瓶颈，解决大动态范围微纳结构测量难题，实现nm-μm-mm跨尺度微纳表面结构高效测量；

2）提出了白光干涉原子力探针扫描跨尺度测量的可溯源标定和坐标统一方法，突破了白光干涉与原子力探针跨尺度微纳传感的坐标统一瓶颈和漂移难题，实现了微纳表面结构跨尺度测量的可溯源和稳定高精度；

3）提出了白光干涉质量评价模型和三维图像噪声区域辨识与重建方法，及二维扫描工作台平面度误差阿贝补偿与二维运动同步计量方法，解决噪声问题与宏微驱动二维工作台运动误差对测量精度的影响问题，为跨尺度微纳表面结构高精度测量提供支撑。

图1 微纳结构多模式跨尺度测量仪器实物图

图2 白光干涉原子力探针扫描跨尺度微纳表面结构测量原理示意图

【技术优势】

本成果项目研制了具有我国自主知识产权的白光干涉原子力探针扫描测量仪等系列微纳表面结构测量仪器，并通过了国家计量院组织的仪器性能和软件的检定测试，纳米尺度原子力垂直测量范围超出国际商用仪器10倍以上，水平动态范围达国际领先水平。

【技术指标】

本成果项目提出了白光干涉原子力探针扫描跨尺度微纳表面结构测量原理和方法，建立跨尺度传感方法，实现nm-μm-mm跨尺度微纳表面结构高效测量。同时，发明的白光干涉原子力探针扫描测量方法与现有商用原子力显微镜相比，垂直测量范围提高10倍，分辨率优于0.01nm。

【技术成熟度】

本项目成果目前处于可量产阶段。

【应用场景】

本成果创新研制出的具有自主知识产权的白光干涉原子力探针扫描测量仪器，可在我国高端光刻装备制造企业、高端显示面板制造企业、激光全息安全防伪企业等国家重点产业的装备研发、工艺优化、产品质量提升中获得重要应用。

【市场前景】

跨越nm-μm-mm的跨尺度微纳表面结构是半导体集成芯片(IC)、新型显示、微机电系统(MEMS)、智能传感器、微纳光学、光伏新能源、纳米仿生、军事隐身、激光全息安全防伪等国家高新先进制造领域的重要制造质量特征；其高精度测量，是相关产品功能质量保证、制造工艺分析和优化的基础，产业水平创新突破的关键，对整个国民经济具有重要意义。所研制的表面微纳结构测量系列仪器，在微机电系统、先进光学成像、光伏新能源、仿生制造、军事隐身等诸多领域具有广阔的应用前景。预估潜在市场规模在5-10亿范围内。

【知识产权】

本成果已申请并授权中国发明专利30余项。

【合作方式】

专利许可、专利转让、作价投资、技术开发、面谈等。

【联系方式】

CG23016