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科技成果转化公示〔2023〕34号——民用氮化铝陶瓷材料表面高结合强度立体线路的共形制造技术

来源:    作者:    发布时间:2023-08-09    阅读量:


根据《华中科技大学科技成果转化管理办法》规定,对我校武汉光电国家研究中心刘建国团队的“民用氮化铝陶瓷材料表面高结合强度立体线路的共形制造技术”成果转化相关事项公示如下:

一、成果名称及简介:

成果包含如下1项知识产权:

发明专利申请权:蚀刻液及其应用、陶瓷表面高结合强度金属层制备方法

发明人:刘建国,项徽清

申请号:202110337612.X

申请权人:华中科技大学

简介:发明“蚀刻液及其应用、陶瓷表面高结合强度金属层制备方法”,公开了蚀刻液及其应用、陶瓷表面高结合强度金属层制备方法。蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:浓硫酸92-98 wt.%,冰晶石0.1-8wt.%,硼酸0.1-8wt.%,各组分含量之和为100%。其中,浓硫酸用于对陶瓷表面进行蚀刻;冰晶石和硼酸主要起到助熔(溶)、促熔(溶)作用,与高温浓硫酸配合,可以加速陶瓷的均匀蚀刻去除,提高蚀刻效率和均匀性。制备方法包括:在一定温度下,对洁净的氧化铝陶瓷表面进行均匀刻蚀,产生均匀的蚀刻微结构。该表面经清洗后,经敏化、活化和化学镀铜等传统步骤,即可在氧化铝陶瓷表面获得高结合强度的金属铜层,结合强度可以达到40MPa以上,平均剥离强度可以达到3.5-10N/mm。

二、拟交易价格

普通许可:50万元。

三、价格形成过程

经全体发明人同意,并与品翔电子元件(漳州)有限公司协商,双方同意该成果以协议定价50万元实施许可,期限3年。

特此公示,公示期15日,自2023年8月9日起至2023年8月23日。如有异议,请于公示期内以书面形式实名向我院反映。

联系人:谭老师,曹老师

联系电话:87558732

科学技术发展院

2023年8月9日

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